Salvo的微型图案镀膜技术在众多的生物医疗、工业、和航天OEM的应用中提高了器件的性能，并使得下一代集成光学器件更紧凑、坚固、性价比更高。凭借着积累的工艺和技术，Salvo能够根据客户的应用或产品功能迅速设计出开发产品的有效方法，并提供技术可行性的方案。

关键设计参数取决于

• 基片：半导体晶圆、光学级玻璃、石英、或者其它材料
• 在单个基片上的滤光片波段数量（多光谱传感）
• 滤光片设计参数：透过波段、截止规格
• 几何特性：最小尺寸、形位公差
• 对齐精度和标识
• 定义操作、切割、测试和包装

在等级100/1000的晶圆加工洁净室内，设备都是经过挑选或定制的，旨在支持成像应用中的超小尺寸（μm）像素水平特性。镀膜的平台包括离子辅助蒸发、磁控溅射、和离子束溅射。在光刻实验室，半导体式的掩模对准器用于加工最大8英寸晶圆。

滤光片设计与材料

• 定制波长波段：紫外、可见光、近红外、短波红外
• 介质膜：带通、短波通、长波通、宽带增透等
• 金属膜：高反射、镀黑吸收、孔径框架、中密度等